單項(xiàng)選擇題R-A001-4加熱介質(zhì)為()
A.5S
B.1.9S
C.12S
D.30S
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1.單項(xiàng)選擇題D-A021位于裝置()樓。
A.4
B.5
C.3
D.2
2.單項(xiàng)選擇題D-A002-2容積為()
A.10
B.15
C.20
D.25
3.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置主過濾器共有多少個(gè)()
A.6
B.5
C.4
D.3
4.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置存儲(chǔ)VWTHF的位號(hào)是()
A.D-A008
B.D-A009
C.D-A009-1
D.D-A007
5.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置廢液罐的位號(hào)是()
A.D-A025
B.D-A026
C.D-A008
D.D-A014
最新試題
C-A003在做粗產(chǎn)品精餾的過程中,儀表室發(fā)現(xiàn)TI-A010溫度高報(bào)警,SV-A010,AV-A111自動(dòng)閥門關(guān)閉,其他設(shè)備運(yùn)行正常,解釋導(dǎo)致此現(xiàn)象的原因及處理方法?
題型:?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)寫出氮封系統(tǒng)主要哪些部分組成?
題型:?jiǎn)柎痤}
為保護(hù)真空機(jī)組及精餾系統(tǒng)的安全穩(wěn)定,設(shè)置真空機(jī)組的連鎖有哪些?
題型:?jiǎn)柎痤}
簡(jiǎn)述降膜蒸發(fā)器的工作原理。
題型:?jiǎn)柎痤}
HMDA裝置具有雙程控制的控制點(diǎn)有哪些?
題型:?jiǎn)柎痤}
反應(yīng)液分析項(xiàng)目有哪些?請(qǐng)一一列舉。
題型:?jiǎn)柎痤}
HMDA裝置的后處理包括了哪些工藝操作?
題型:?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)簡(jiǎn)述C-A001/2/3/5在工藝中的作用?
題型:?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)簡(jiǎn)述THF投料現(xiàn)場(chǎng)操作?
題型:?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)用分子結(jié)構(gòu)式寫出MDA加氫反應(yīng)生產(chǎn)HMDA的化學(xué)方程式。
題型:?jiǎn)柎痤}