單項(xiàng)選擇題HMDA在反應(yīng)時(shí)工藝要求的系統(tǒng)含水量（）%。

A.0.6
B.0.5
C.0.06
D.0.05


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1.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置C-A002向D-A008采出時(shí)，塔頂回流比（）

A.1：1
B.2：1
C.1：2
D.1：4

2.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置C-A002加壓精餾時(shí)提供壓力的氣體介質(zhì)為（）

A.氫氣
B.氮?dú)?br /> C.氫氣-氮?dú)?br /> D.空氣

3.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置C-A002加壓精餾時(shí)的壓力為（）MPa。

A.5
B.7
C.0.5
D.0.7

4.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置C-A001氣提時(shí)間為（）h。

A.1.5
B.2
C.2.5
D.3