A、它與試件上的磁通密度有關(guān)
B、它與缺陷的高度有關(guān)
C、磁化方向與缺陷垂直時(shí)漏磁通最大
D、以上都對(duì)
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A、磁化強(qiáng)度為一定時(shí)，缺陷高度小于1mm的形狀相似的表面缺陷，其漏磁通與缺陷高度無關(guān)
B、缺陷離試件表面越近，缺陷漏磁通越小
C、在磁化狀態(tài)、缺陷種類和大小為一定時(shí)，缺陷漏磁通密度受缺陷方向影響
D、交流磁化時(shí)，近表面缺陷的漏磁通比直流磁化時(shí)要小
E、當(dāng)磁化強(qiáng)度、缺陷種類和大小為一定時(shí)，缺陷處的漏磁通密度受磁化方向的影響
F、c，d和e都對(duì)
A、摩擦力
B、矯頑力
C、漏磁場(chǎng)
D、靜電場(chǎng)
A、10條磁力線（1韋伯）
B、伴隨著一個(gè)磁場(chǎng)的磁力線條數(shù)
C、穿過與磁通平行的單位面積的磁力線條數(shù)
D、穿過與磁通垂直的單位面積的磁力線條數(shù)
A、濕法檢驗(yàn)時(shí)，在液體中懸浮磁粉的方法
B、連續(xù)法時(shí)使用的磁化力
C、表示去除材料中的剩余磁性需要的反向磁化力
D、不是用于磁粉探傷的術(shù)語
A．磁力線永不相交；
B．磁鐵磁極上磁力線密度最大；
C．磁力線沿阻力最小的路線通過；
D．以上都對(duì)
最新試題
根據(jù)JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，磁粉檢測(cè)前的工件表面準(zhǔn)備包括打磨表面、安裝接觸墊、封堵盲孔和涂敷反差增強(qiáng)劑。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：剩磁應(yīng)不大于0.3mT（240A/m）。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線上且間距不大于2mm時(shí)，按一條磁痕處理，其長(zhǎng)度為兩條磁痕之和加間距。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：直流退磁法是將需退磁工件放入直流磁場(chǎng)中，逐漸減小電流至零。
磁懸液應(yīng)采用軟管沖淋或浸漬法施加于工件表面。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時(shí)應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀察。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：大型工件可使用交流電磁軛進(jìn)行局部退磁或采用纏繞電纜線圈分段退磁。
標(biāo)準(zhǔn)試塊主要用于檢驗(yàn)磁粉檢測(cè)的系統(tǒng)靈敏度，確定被檢工件的磁化規(guī)范。
磁粉檢測(cè)—橡膠鑄型法是采用連續(xù)法檢測(cè)。
采用剩磁法時(shí)，磁懸液應(yīng)在通電結(jié)束后再施加，一般通電時(shí)間為2～3s。