A、裂化反應器出口壓力降到15.0MPa（表）
B、反應器入口溫度升到400℃，并保持此溫度24h
C、循環(huán)氫以最大流率循環(huán)，并保持濃度在80%（V）以上
D、全開各路急冷氫閥
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A、裂化反應器出口與精制反應器入口循環(huán)氫中水含量、H2S濃度相近。
B、高分的生成水量基本不再增加
C、連續(xù)4小時循環(huán)氫中H2S濃度大于1%（V）
D、硫化劑注入的總注入量已達到或接近預定的理論用量
A、起始硫化溫度175℃，終止硫化溫度370℃
B、硫化過程有兩個恒溫階段，分別是230℃和290℃
C、恒溫階段的恒溫時間不應小于8h
D、硫化劑注入后會產(chǎn)生一定的溫波，應在溫波通過反應器各床層后，再繼續(xù)按硫化要求的升溫速度升溫
A、直餾輕柴油或煤油
B、氮含量＜100μg/g
C、干點＜350℃
D、含水量＜0.01m%
A、嚴禁操作人員直接在催化劑上行走
B、在裝填過程中應用干燥空氣進行吹掃
C、吹掃空氣應在略高于已裝填催化劑床層料面之上引入
D、吹掃的氣流應穿過催化劑床層
A、撇頭處理
B、提高原料油的純凈度，防止污染物進入床層
C、采用分級裝填技術，擴大床層容垢能力
D、應用抗垢劑
最新試題
加氫反應器的徑向溫差越大則表明流體分布均勻性越好。
在30mL1mol/L氯化鈉溶液和40mL的0.5mol/L氯化鈣溶液混合后，混合溶液中-Cl離子的摩爾濃度為[溶液體積變化忽略不計]（）mol/L。
集散控制系統(tǒng)又稱分散控制系統(tǒng)，它是以微型計算機為基礎的，將顯示操作部分高度集中，而將控制部分分散的一種控制系統(tǒng)。
轉化爐爐管易出現(xiàn)高溫蠕變破裂、δ相、脫碳、熱疲勞四種破壞形式。
鍋爐系統(tǒng)生產(chǎn)時汽包出現(xiàn)虛假液位主要是由給水量與蒸汽量之間的物料平衡關系破壞所引起的。
分散控制系統(tǒng)（DCS）一般由過程輸入/輸出接口單元、過程控制單元CRT操作站、高速數(shù)據(jù)通道四部分組成。
活塞式壓縮機冷卻系統(tǒng)一般包括（）部分。
將除氧器的安裝在一定的高度，主要是利用水柱的高度克服進水管路的阻力和給水泵入口處產(chǎn)生的負壓，防止鍋爐給水泵發(fā)生汽蝕。
鍋爐蒸汽并汽時的參數(shù)要求是鍋爐汽包壓力略低于管網(wǎng)壓力，一般中壓鍋爐低0.1～0.2Mpa，高壓鍋爐一般低0.2～0.3Mpa。
鍋爐蒸汽并汽時要求鍋爐出口汽溫度應比管網(wǎng)汽溫低一些，一般可低30～60℃。