A.修改PID參數(shù)
B.改用主表控制
C.改用副表控制
D.改副線控制
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A.建立配氫配汽循環(huán)
B.建立氮?dú)庋h(huán)
C.維持低負(fù)荷生產(chǎn)
D.緊急停工
A.改副線控制
B.用上游閥控
C.用下游閥控制
D.停油修閥
A.液位計(jì)破裂
B.安全閥跳開
C.汽水共沸
D.壓力波動(dòng)
A.提高汽包壓力
B.降低汽包壓力
C.提高產(chǎn)汽量
D.降低產(chǎn)汽量
A.沖刷
B.壁厚
C.外表有無泄漏、振動(dòng)、支吊架等情況
D.金相
最新試題
制氫裝置提量、降量的操作原則什么?
加氫反應(yīng)器的徑向溫差越大則表明流體分布均勻性越好。
鍋爐系統(tǒng)生產(chǎn)時(shí)汽包出現(xiàn)虛假液位主要是由給水量與蒸汽量之間的物料平衡關(guān)系破壞所引起的。
在裝填加氫催化劑前,若發(fā)現(xiàn)直徑小于0.85mm的催化劑和細(xì)粉含量大于0.5m%時(shí),則應(yīng)在裝填前重新過篩。
鍋爐系統(tǒng)中,連續(xù)排污也叫表面排污,其作用主要是排出爐水中的固體雜質(zhì)和松散的水渣。
集散控制系統(tǒng)又稱分散控制系統(tǒng),它是以微型計(jì)算機(jī)為基礎(chǔ)的,將顯示操作部分高度集中,而將控制部分分散的一種控制系統(tǒng)。
鍋爐汽包玻璃板液位計(jì)在破碎后應(yīng)及時(shí)更換,更換后鍋爐汽包液位劑后即可立即投用監(jiān)視汽包液位。
原料油中的鐵含量是造成加氫反應(yīng)器床層堵塞,壓力降增大的主要原因。
分散控制系統(tǒng)(DCS)一般由過程輸入/輸出接口單元、過程控制單元CRT操作站、高速數(shù)據(jù)通道四部分組成。
反應(yīng)器內(nèi)構(gòu)件主要有哪些?