A、金屬離子與OH根
B、金屬離子與酸根
C、鈉離子與OH根
D、氯化鈉
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A、100克溶液
B、100克溶質(zhì)
C、1升溶液D、1升溶劑
A、全部為氫離子
B、大部分為氫離子
C、全部為氫氧根
D、大部分為氫氧根
A、PH值越小,溶液的酸性越強(qiáng)
B、PH值越大,溶液的堿性越強(qiáng)
C、PH值不能大于14
D、P溶液中,P氫離子POH=14
A、電解質(zhì)本身導(dǎo)電
B、水能夠?qū)щ?br />
C、在水中離解成自由移動(dòng)的帶電荷的離子
D、能與水發(fā)生了化學(xué)反應(yīng)而導(dǎo)電
A、生成物只有一種的化學(xué)反應(yīng)
B、只有兩種物質(zhì)發(fā)生化學(xué)生成另一種物質(zhì)的化學(xué)反應(yīng)
C、兩種或兩種以上的物質(zhì)發(fā)生化學(xué)生成另一種物質(zhì)的化學(xué)反應(yīng)
D、一種物質(zhì)能過(guò)化學(xué)反應(yīng)生成另一種物質(zhì)的反應(yīng)
最新試題
下列除鹽工藝采用膜凈化技術(shù)的是()。
容量分析中,等量點(diǎn)與滴定終點(diǎn)的差值稱為滴定誤差。
常用的水處理藥劑中”三鈉一膠”中“三鈉”指的是()。
《特種設(shè)備作業(yè)人員監(jiān)督管理辦法》規(guī)定,下列條件哪條是申請(qǐng)《特種設(shè)備作業(yè)人員證》的人員應(yīng)當(dāng)符合的條件?()
鍋爐停用期間的腐蝕速度要小于鍋爐運(yùn)行時(shí)的腐蝕速度。
鍋爐的排污要求是()。
連續(xù)排污,主要是降低鍋水中的含鹽量和堿度,排除鍋水表面的油脂和泡沫。
清洗質(zhì)量檢驗(yàn)的主要項(xiàng)目有()。
《特種設(shè)備作業(yè)人員考核規(guī)則》規(guī)定,考試機(jī)構(gòu)應(yīng)當(dāng)將《特種設(shè)備作業(yè)人員考試申請(qǐng)表》、考試試卷、成績(jī)匯總表、考場(chǎng)記錄等()。
通常氫原子的化合價(jià)為+1,氧原子的化合價(jià)為-2。