A.二甲苯塔底的C+8A
B.二甲苯塔底的OX+C+9A
C.吸附分離裝置貧PX的抽余液
D.二甲苯塔頂?shù)腃8A
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A.重整C8A、異構(gòu)化C8A歧化C8A
B.重整C8A、歧化C8A、裂解C8A、外供C8A
C.重整C8A、歧化C8A、異構(gòu)化C8A、外供C8A
D.重整C8A、裂解C8A、外供C8A
A.把混合的C8A分離成PX和貧PX的C8A
B.把外供C8A及異構(gòu)化C8A分離成高純度的PX及貧PX的C8A
C.把接近平衡狀態(tài)的C8A分離成高純度的PX和貧PX的C8A
D.把外供C8A及異構(gòu)化接近平衡的C8A分離成高純度的PX及貧PX的C8A
A.立即打開真空側(cè)閥門
B.當(dāng)真空側(cè)的真空度達(dá)到0.08Mpa以后再開真空側(cè)閥門
C.工藝側(cè)具備條件即可立即開啟工藝側(cè)閥門
D.緩慢打開真空側(cè)的進(jìn)口閥門,防止真空噴射器過載
A.確保蒸汽噴射泵受熱均勻,防止其內(nèi)件受損
B.防止抽真空的蒸汽竄入工藝側(cè),引起工藝側(cè)設(shè)備超溫,損壞工藝設(shè)備
C.防止工藝系統(tǒng)進(jìn)水和蒸汽,引起設(shè)備內(nèi)的物料損壞或者超壓
D.防止蒸汽噴射泵啟動時超負(fù)荷而損壞
最新試題
苯環(huán)上的親電取代反應(yīng)生成正碳離子的速度很快。
PLC中使用的只讀存貯器有RAM、EPROM、EEPROM等。
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%LEL表示以某可燃性氣體爆炸下限為100%時的相對百分?jǐn)?shù),稱為爆炸下限的百分比濃度。
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亨利定律僅適用于系統(tǒng)壓力不高的稀溶液。