A、參考點(diǎn)的顯示是一個(gè)“+”形標(biāo)記
B、參考點(diǎn)隨著鼠標(biāo)而移動(dòng)并且與修補(bǔ)點(diǎn)的距離保持不變
C、參考點(diǎn)與修補(bǔ)點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)軌跡是平行的
D、在修補(bǔ)圖像過程中參考點(diǎn)的變換盡可能少一些
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A、海綿工具
B、修復(fù)畫筆工具
C、仿制圖章工具
D、圖案圖章工具
A、畫筆面板
B、色板面板
C、工具預(yù)設(shè)面板
D、樣式面板
A、任意長(zhǎng)寬比例的矩形選區(qū)
B、固定長(zhǎng)寬比的矩形選區(qū)
C、固定長(zhǎng)或?qū)挼木匦芜x區(qū)
D、固定大小的矩形選區(qū)
A、確認(rèn)當(dāng)前層為文字圖層，在工具箱中點(diǎn)按前景色選區(qū)框，并使用拾色器選擇顏色
B、將疊加圖層樣式應(yīng)用于文字圖層
C、在文字圖層中使用填充快捷鍵
D、點(diǎn)按文字選項(xiàng)欄的“顏色”選區(qū)框，并使用拾色器選擇顏色
A、在“畫筆”調(diào)板的“雙重畫筆”部分可以設(shè)置主要筆尖的選項(xiàng)。在“畫筆”調(diào)板的“畫筆筆尖形狀”部分可以設(shè)置次要筆尖的選項(xiàng)。
B、在“畫筆”調(diào)板的“畫筆筆尖形狀”部分可以設(shè)置主要筆尖的選項(xiàng)。在“畫筆”調(diào)板的“雙重畫筆”部分可以設(shè)置次要筆尖的選項(xiàng)。
C、在“畫筆”調(diào)板的“雙重畫筆”部分可以設(shè)置主要筆尖和次要筆尖的選項(xiàng)
D、在“畫筆”調(diào)板的“畫筆筆尖形狀”部分可以設(shè)置主要筆尖和次要筆尖的選項(xiàng)
最新試題
網(wǎng)點(diǎn)虛暈度是指網(wǎng)點(diǎn)邊緣區(qū)域密度過渡的快慢程度。過渡快的網(wǎng)點(diǎn)，其虛邊較寬，清晰度好，曬版時(shí)網(wǎng)點(diǎn)的還原再現(xiàn)性好。
原版上網(wǎng)點(diǎn)質(zhì)量的黑度低，應(yīng)D<2.0時(shí)應(yīng)重新制版。
只有將文字圖層?xùn)鸥窕?，才能?duì)其進(jìn)行扭曲和透視的變換操作。
在曬版過程中用到的化學(xué)藥品有的屬于光敏性物質(zhì)，具有光不穩(wěn)定性，有的具有強(qiáng)腐蝕性或劇毒性，而有的則是易燃易爆品，所以必須全面了解這些藥品的基本性能，防止發(fā)生危險(xiǎn)和不必要的事故。
文字圖層可直接進(jìn)行旋轉(zhuǎn)、扭曲和透視操作。
曬版時(shí)，使用的感光物盡管是光敏物，在光照下能發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，有時(shí)卻能在亮室下而不必在暗室下操作。
平版曬版中，主要應(yīng)用的光敏物質(zhì)是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。
感光版的涂層越厚，它的反射能力越強(qiáng)，那么曬版時(shí)所需的曝光量越小，光滲量和光散射量相應(yīng)減少，將會(huì)造成圖文殘缺或空白部位上臟等故障。
裝版時(shí)，防止原版不平，應(yīng)防止折壓原版或膠帶過近。
翻轉(zhuǎn)型曬版機(jī)又可稱為雙面曬版機(jī)，它的裝版準(zhǔn)備和曝光可同時(shí)交替運(yùn)行，工作效率高，封閉遮光性能好。