A.印模材吸水收縮,失水膨脹,體積不穩(wěn)定
B.印模材吸水膨脹,失水收縮,體積不穩(wěn)定
C.時(shí)間過(guò)長(zhǎng),印模材變硬,不易脫模
D.石膏凝固時(shí)間長(zhǎng)
E.以上均不正確
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A.與牙弓形態(tài)盡量協(xié)調(diào)一致
B.上頜蓋過(guò)上頜結(jié)節(jié)和顫動(dòng)線
C.與牙弓內(nèi)外側(cè)應(yīng)有3一4mm間隙
D.翼緣不超過(guò)粘膜皺襞
E.如與內(nèi)口弓條件相差太遠(yuǎn),應(yīng)制作個(gè)別托盤(pán)
A.方向
B.角度
C.部位
D.方向和角度
E.方向和部位
A.輕拉唇頰部,在上頜向前向下,下頜向前向上
B.輕拉唇頰部,在上頜向后向下,下頜向后向上
C.輕拉唇頰部,在上頜向前向上,下頜向前向下
D.輕拉唇頰部,在上頜向后向上,下頜向后向下
E.囑患者輕輕活動(dòng)唇頰部,并作吞咽、伸舌等動(dòng)作
A.基托蠟型在頰舌側(cè)呈凹面
B.基托邊緣應(yīng)用蠟封牢
C.厚約2mm
D.舌側(cè)基托止于天然平面
E.人工牙的頸緣
A.近中支托凹,舌側(cè)導(dǎo)平面
B.近中支托凹,遠(yuǎn)中導(dǎo)平面
C.遠(yuǎn)中支托凹,舌側(cè)導(dǎo)平面
D.遠(yuǎn)中支托凹,遠(yuǎn)中導(dǎo)平面
E.近中支托凹,頰側(cè)導(dǎo)平面
最新試題
彎制支架時(shí),錯(cuò)誤的觀點(diǎn)是()
鑄造支架蠟型加強(qiáng)網(wǎng)下部應(yīng)離開(kāi)模型牙槽嵴()
以下不是肯氏第一類牙列缺損修復(fù)設(shè)計(jì)的是()
鑄造支架卡環(huán)由體部到臂尖應(yīng)()
卡環(huán)體可防止義齒()向或()向脫位。
在鑄造支架蠟型制作中后腭桿的中份厚度一般為()
由兩個(gè)卡環(huán)通過(guò)共同的卡環(huán)體連接而成,卡環(huán)體位于相鄰兩基牙牙合外展隙與伸向牙合面的支托相連,是()
屬于間接固位體的形式的是()
以下哪一項(xiàng)是彈性仿生義齒的適應(yīng)癥()
調(diào)拌包埋材料時(shí)正確的操作是()