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填空題目前常用的CVD系統(tǒng)有（）、（）和（）。

1.填空題立式爐的工藝腔或爐管是對硅片加熱的場所，它由垂直的（）、（）和（）組成。

2.填空題硅片上的氧化物主要通過（）和（）的方法產(chǎn)生，由于硅片表面非常平整，使得產(chǎn)生的氧化物主要為層狀結(jié)構(gòu)，所以又稱為（）。

3.填空題列出熱氧化物在硅片制造的4種用途（）、（）、場氧化層和（）。

4.填空題選擇性氧化常見的有（）和（），其英語縮略語分別為LOCOS和（）。

5.填空題用于熱工藝的立式爐的主要控制系統(tǒng)分為五部分（）、（）、氣體分配系統(tǒng)、尾氣系統(tǒng)和（）。