A.線圈中試樣的電導(dǎo)率
B.線圈中試樣的磁導(dǎo)率
C.填充系數(shù)
D.上述的三項(xiàng)
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A.引起流過(guò)檢驗(yàn)線圈的電流的增加
B.引起流過(guò)檢驗(yàn)線圈的電流的減少
C.對(duì)流過(guò)檢驗(yàn)線圈的電流無(wú)影響
D.使加到線圈的電壓降低
A.100HZ
B.10KHZ
C.1MHZ
D.10MHZ
A.提離效應(yīng)
B.邊緣效應(yīng)
C.填充系數(shù)
D.相位鑒別
A.測(cè)量磁導(dǎo)率的變化
B.測(cè)量電導(dǎo)率的變化
C.測(cè)量不導(dǎo)電復(fù)層的厚度
D.確定合適的檢驗(yàn)頻率
A.減少提離的變化
B.減少探頭的磨損
C.減少操作人員的疲勞
D.消除邊緣效應(yīng)
最新試題
對(duì)于厚度變化較大的變截面工件透照,只要底片黑度符合GJB1187A的要求時(shí),就可采用多膠片技術(shù)。
廢舊藥液應(yīng)采用專用容器收集,定期送指定的機(jī)構(gòu)處理。
X射線檢測(cè)人員健康體檢為每()年一次。
檢測(cè)申請(qǐng)時(shí)工序狀態(tài)應(yīng)清楚、工序質(zhì)量應(yīng)符合工序質(zhì)量要求,檢驗(yàn)蓋章確認(rèn),確保焊接、檢驗(yàn)、檢測(cè)等全過(guò)程具有可追溯性。
下面給出的射線檢測(cè)基本原理中,正確的是()。
二次打底焊接或重熔排除,無(wú)需辦理相關(guān)手續(xù),直接使用前次的申請(qǐng)手續(xù)。
底片圖像質(zhì)量參數(shù)中的顆粒度與膠片的粒度是同一概念。
對(duì)于圓柱導(dǎo)體的外通過(guò)式線圈,其阻抗變大的情況有()
一次完整的補(bǔ)焊過(guò)程中缺陷是否排除X光透照確認(rèn)可以不限次數(shù),直至缺陷完全排除。
提出有效磁導(dǎo)率的是下列哪位科學(xué)家()