多項(xiàng)選擇題在酸性氯化銅蝕刻過程出現(xiàn)抗蝕劑破壞的原因可能有（）。

A.溶液溫度過高
B.溶液被污染
C.顯影有余膠
D.傳遞速度過快


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1.多項(xiàng)選擇題影響等離子體蝕刻特性好壞的因素包括以下幾個(gè)方面（）。

A.等離子體蝕刻系統(tǒng)的形態(tài)
B.等離子體蝕刻的參數(shù)
C.光刻膠
D.待蝕刻薄膜的淀積參數(shù)條件

2.多項(xiàng)選擇題濕法蝕刻具有以下哪些缺點(diǎn)（）。

A.化學(xué)藥品處理時(shí)人員會(huì)遭遇的安全問題
B.反應(yīng)溶液及去離子水需花費(fèi)較高成本
C.光刻膠會(huì)產(chǎn)生附著性問題
D.蝕刻不均勻

4.多項(xiàng)選擇題廣義而言，所謂的蝕刻技術(shù)可以分為（）。

A.干蝕刻
B.濕蝕刻
C.中性蝕刻
D.無側(cè)蝕蝕刻

5.多項(xiàng)選擇題在堿性氯化銅蝕刻中，造成蝕刻過度的原因可能有（）。

A.傳送速度太慢
B.pH值過高
C.蝕刻液比重偏低
D.蝕刻液溫度不足