一個(gè)是全息學(xué)的發(fā)展處于極盛時(shí)期，另一個(gè)是電子計(jì)算機(jī)控制繪圖剛開始普及。
直接用于光學(xué)干涉法在記錄物光波和參考光波疊加后形成的干涉圖樣。
最新試題
陰影莫爾法
相位濾波器
莫爾條紋
膠片用于相關(guān)光學(xué)系統(tǒng)中？
二元掩膜
匹配濾波器組，可以采用哪兩種方法？
周期函數(shù)隨著其周期逐漸增大，頻率（即譜線間隔（）當(dāng)函數(shù)周期變?yōu)闊o窮大，實(shí)質(zhì)上變?yōu)榉侵芷诤瘮?shù)，基頻趨于零
二元光學(xué)元件
掃描莫爾
振幅濾波器