A.1/2
B.1/3
C.1/4
D.2/3
E.3/4
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A.近缺隙側(cè)大,遠(yuǎn)缺隙側(cè)小
B.近缺隙側(cè)小,遠(yuǎn)缺隙側(cè)大
C.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)都小
D.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)都大
E.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)相等
A.放置附著體的基牙冠修復(fù)后,為增加附著體的強(qiáng)度可增寬牙冠的頰舌徑
B.冠內(nèi)附著體與其他固位體可聯(lián)合使用
C.栓道的底部即起到常規(guī)義齒中牙合支托窩的作用
D.如義齒需采用兩個(gè)或兩個(gè)以上冠內(nèi)附著體,必須使各冠內(nèi)附著體栓道軸壁間有共同就位道
E.冠內(nèi)附著體可用于修復(fù)游離端牙列缺損的患者
A.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽(yáng)性結(jié)構(gòu)接觸面積與固位力成正比
B.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽(yáng)性結(jié)構(gòu)接觸密合程度與固位力成正比
C.義齒的穩(wěn)定性決定于栓體與栓道側(cè)壁間的密合程度
D.自制附著體陰性結(jié)構(gòu)即栓道的軸壁形態(tài)對(duì)固位力有影響
E.精密附著體在義齒制作過(guò)程中,附著體預(yù)成品,通過(guò)包埋、鑄造、研磨等工序,會(huì)影響附著體陰型結(jié)構(gòu)和陽(yáng)型結(jié)構(gòu)的密合度,影響附著體固位
A.2mm
B.3mm
C.1.5mm
D.2.5mm
E.桿與黏膜緊密接觸
A.腭護(hù)板可以戴到正式義頜完成時(shí)
B.腭護(hù)板戴入后,一般不需要修改
C.腭護(hù)板戴入后,白天、夜間均要戴
D.腭護(hù)板可在外科手術(shù)后6~10天制作
E.腭護(hù)板可以周期性添加暫襯材料
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鑄造金屬全冠與烤瓷熔附金屬全冠修復(fù)體比較,最主要的優(yōu)點(diǎn)為()。
光接觸修復(fù)體表面,當(dāng)光的入射角為多少度時(shí),光的反射量最大?()
與圓錐型套筒冠固位力關(guān)系不密切的是()。
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