A.1mm
B.1~1.5mm
C.2mm
D.3~5mm
E.4~5mm
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A.全口義齒上前牙排列時前后位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
B.全口義齒上前牙排列時上下位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
C.全口義齒上前牙排列時左右位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
D.后牙排列時頰、舌位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
E.后牙排列時前后位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
A.全口義齒上前牙排列時前后位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
B.全口義齒上前牙排列時上下位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
C.全口義齒上前牙排列時左右位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
D.后牙排列時頰、舌位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
E.后牙排列時前后位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
A.基托呈凹形
B.基托可稍厚
C.基托可稍薄
D.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的前緣
E.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的1/3~1/2
A.基托呈凹形
B.基托可稍厚
C.基托可稍薄
D.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的前緣
E.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的1/3~1/2
A.基托呈凹形
B.基托可稍厚
C.基托可稍薄
D.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的前緣
E.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的1/3~1/2
最新試題
構(gòu)筑烤瓷冠形態(tài)主體的是()。
關(guān)于全口義齒排牙前準(zhǔn)備,錯誤的是()。
在全口義齒排牙時,兩側(cè)后部應(yīng)()。
全口義齒排牙時切緣稍向腭側(cè)傾斜,頸部突向唇側(cè),頸部略向遠(yuǎn)中傾斜,牙尖與平面接觸的牙是()。
半解剖式人工牙的特征是()。
脫模時間應(yīng)在模型灌注后()。
使烤瓷冠更加光亮的是()。
全口義齒排牙,非解剖式后牙最適應(yīng)于()。
全口義齒的人工牙排列在牙槽嵴偏頰側(cè),可能產(chǎn)生的影響是()。
彎制支托的要求是()。