A.反映SPECT斷層成像的計(jì)數(shù)效率
B.對(duì)均勻體源成像,系統(tǒng)容積靈敏度為總體積內(nèi)所有斷層計(jì)數(shù)之和與源的放射性濃度之比
C.與源模型的大小形狀無關(guān)
D.核素的能量、衰減、散射會(huì)影響靈敏度
E.晶體厚度、準(zhǔn)直器的類型會(huì)影響靈敏度
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A.反映系統(tǒng)對(duì)小病灶的探測(cè)能力
B.斷層對(duì)比度與病灶的大小有關(guān)
C.空間分辨率影響對(duì)比度的大小
D.不同的重建算法、選用不同的濾波函數(shù)及截止頻率對(duì)對(duì)比度也有影響
E.對(duì)比度=斷層圖像內(nèi)病灶平均計(jì)數(shù)/斷層圖像內(nèi)本底平均計(jì)數(shù)
A.是個(gè)虛設(shè)的機(jī)械點(diǎn),位于旋轉(zhuǎn)軸上
B.是機(jī)械坐標(biāo)系統(tǒng)、探頭電子坐標(biāo)和計(jì)算機(jī)圖像重建坐標(biāo)共同的重合點(diǎn)
C.任何不重合都表現(xiàn)為旋轉(zhuǎn)軸傾斜和旋轉(zhuǎn)中心漂移
D.旋轉(zhuǎn)中心漂移可能會(huì)在SPECT圖像上產(chǎn)生偽影
E.系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)包括旋轉(zhuǎn)中心漂移及軸向?qū)?zhǔn)
A.包含3個(gè)方向的分辨率:x方向、y方向、z方向
B.用點(diǎn)源或線源的擴(kuò)展函數(shù)在不同斷層中的半高寬(FWHM)來表示
C.分有散射和無散射兩種情況
D.FWHM越大,分辨率越高
E.準(zhǔn)直器的類型、衰減校正、散射、晶體厚度、重建算法等都會(huì)影響空間分辨率
A.指對(duì)均勻體源所成的斷層圖像中放射性分布的均勻性
B.斷層圖像的均勻性比γ相機(jī)平面圖像的均勻性好
C.重建過程對(duì)非均勻性有放大作用
D.實(shí)際上是SPECT對(duì)核素在體內(nèi)三維分布能否真實(shí)再現(xiàn)的指標(biāo)
E.斷層均勻性與重建算法及總計(jì)數(shù)有關(guān)
A.描述探頭對(duì)視野之外的源的屏蔽能力
B.對(duì)患者本身FOV之外放射性的屏蔽:用與探頭平面的垂直距離為20cm點(diǎn)源,在距探頭FOV邊緣前后10cm、20cm、30cm的最大屏蔽計(jì)數(shù)與在FOV中心處計(jì)數(shù)率的百分比表示
C.對(duì)周圍環(huán)境放射性的屏蔽:將點(diǎn)源置于距探頭中心1m,距探頭兩側(cè)及前后2m處。用探頭分別朝上、下、左、右時(shí)的計(jì)數(shù)率與FOV中心處計(jì)數(shù)率的百分比表示對(duì)周圍環(huán)境放射性的屏蔽性能
D.屏蔽泄漏=最大屏蔽計(jì)數(shù)率/FOV中心計(jì)數(shù)率×100%
E.探頭屏蔽性能反映了患者本身FOV之外放射性和周圍環(huán)境放射性這兩種影響的程度
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