A.基托邊緣過長
B.基托邊緣過短
C.基托不密合
D.初戴不適應(yīng)
E.咬合不平衡
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全口義齒排牙后試戴前,在可調(diào)式架和模型上觀察,哪一項(xiàng)說法不正確()
A.邊緣伸展是否恰當(dāng)
B.后牙排列在牙槽嵴頂連線
C.兩側(cè)對稱
D.上、下頜前牙與后牙均有緊密接觸
E.有前伸和側(cè)方平衡
A.蓋過磨牙后墊
B.蓋過磨牙后墊的2/3
C.蓋過磨牙后墊的1/2~2/3
D.蓋過磨牙后墊的前1/3~1/2
E.暴露磨牙后墊
A.盡可能擴(kuò)大印模面積
B.取功能性印模
C.使組織均勻受壓
D.使用彈性印模材料
E.保持托盤位置不動(dòng)
A.位于軟硬腭交界處
B.位于腭中縫上
C.是口內(nèi)黏液腺導(dǎo)管的開口
D.義齒基托的后緣應(yīng)止于此
E.數(shù)目多為1~2個(gè)
A.丁香油氧化鋅糊劑
B.Ca(OH)2糊劑
C.磷酸鋅水門汀
D.聚羧酸水門汀
E.玻璃離子水門汀
最新試題
關(guān)于無牙頜的分區(qū),下列不屬于緩沖區(qū)的是()
以下關(guān)于金瓷冠的描述,錯(cuò)誤的是()
可摘局部義齒有兩種區(qū)別顯著的類型,一種為肯氏Ⅰ類和Ⅱ類義齒,一種為肯氏Ⅲ類義齒,兩者之間存在顯著差異,以下說法錯(cuò)誤的是()
邊緣過度伸展的全口義齒長期戴用后最有可能出現(xiàn)的組織反應(yīng)是()
下頜全口義齒基托磨光面形態(tài)通常呈凹形,但如果頰側(cè)翼緣區(qū)基托磨光面凹度太大會(huì)導(dǎo)致()
下列解剖標(biāo)志中哪個(gè)不屬于口腔前庭范圍()
金瓷冠的金屬基底冠有瓷覆蓋部位的厚度一般為()
下列哪項(xiàng)不是無牙頜患者上頜結(jié)節(jié)下垂的原因()
與金瓷冠強(qiáng)度無關(guān)的因素是()
患者戴用全口義齒后,說話及張口時(shí)義齒不脫落而咀嚼時(shí)脫落,分析原因下列哪項(xiàng)除外()