以下哪項(xiàng)不是HannaⅡ型
架的特點(diǎn)（）
A.髁導(dǎo)盤位于上頜體，切導(dǎo)盤位于下頜體
B.與人體顱骨結(jié)構(gòu)形式相同
C.是一種半可調(diào)的架
D.模擬開閉口時(shí)，頜間距離的改變會(huì)導(dǎo)致髁導(dǎo)斜度的改變
E.可以在架上升高或降低頜間距離
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完善的全口義齒制作至少需要使用的
架為（）
A.簡(jiǎn)單架
B.平均值架
C.半可調(diào)架
D.全可調(diào)架
E.簡(jiǎn)單架和全可調(diào)架
A.基托后緣過長(zhǎng)
B.咬合有高點(diǎn)
C.垂直距離過高
D.垂直距離過低
E.前伸
不平衡
A.頜骨的解剖形態(tài)
B.口腔黏膜的性質(zhì)
C.唾液的質(zhì)與量
D.舌的大小
E.基托的邊緣范圍
A.增加基牙的傾斜度
B.橋體易彎曲變形
C.不能分散
力
D.力不能通過基牙的長(zhǎng)軸傳導(dǎo)
E.力易集中于傾斜側(cè)根面
A.有早接觸的下舌尖
B.有早接觸的上頰尖
C.有早接觸的支持尖
D.有早接觸的支持尖相對(duì)應(yīng)的中央凹
E.有早接觸的支持尖相對(duì)應(yīng)的牙尖
最新試題
以下有關(guān)切牙乳突的描述中，不恰當(dāng)?shù)氖牵ǎ?/p>
咀嚼時(shí)上總義齒易向前翹動(dòng)的原因是（）
下頜全口義齒基托磨光面形態(tài)通常呈凹形，但如果頰側(cè)翼緣區(qū)基托磨光面凹度太大會(huì)導(dǎo)致（）
患者全口義齒戴牙后疼痛，經(jīng)檢查后發(fā)現(xiàn)在牙槽嵴上產(chǎn)生連續(xù)性壓痛點(diǎn)，疼痛不明顯，應(yīng)考慮最可能原因是（）
修復(fù)體的固位力與下列哪種因素?zé)o關(guān)（）
全口義齒初戴時(shí)，如發(fā)現(xiàn)下頜義齒翹動(dòng)，支點(diǎn)的位置通常是（）
腭穹隆的形態(tài)在修復(fù)學(xué)上可分為（）
貼面修復(fù)不適用于（）
下頜牙槽嵴黏膜壓痛的最可能原因是（）
患者戴用全口義齒后，說話及張口時(shí)義齒不脫落而咀嚼時(shí)脫落，分析原因下列哪項(xiàng)除外（）