A.釉質(zhì)發(fā)育不全
B.四環(huán)素牙
C.遺傳性乳光牙本質(zhì)
D.牙本質(zhì)過敏
E.磨耗
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A.平面導(dǎo)板
B.Herbst矯治器
C.FrankelⅢ型矯治器
D.以上都正確
E.以上都不正確
A.內(nèi)收上前牙的唇弓
B.下頜前磨牙的改良箭頭卡環(huán)或三角形箭頭卡環(huán)(Delta卡環(huán))
C.上頜磨牙的改良箭頭卡環(huán)或三角形箭頭卡環(huán)(Delta卡環(huán))
D.墊
E.下前牙的唇弓
A.要求準(zhǔn)確的印模和咬合記錄
B.矯治器的基托和墊部分可以用自凝塑料和熱凝塑料制作
C.下頜墊咬合斜面的角度為45°
D.上頜磨牙區(qū)斜面導(dǎo)板的后緣應(yīng)位于下頜第二前磨牙的近中
E.以上都正確
患者,男,缺失,余留牙正常,口底距舌側(cè)齦緣的距離為4mm,如果設(shè)計(jì)鑄造支架可摘局部義齒,設(shè)計(jì)PRI卡環(huán)組。
大連接體可采用()
A.舌桿
B.連續(xù)桿
C.帶連續(xù)桿的舌桿
D.舌板
E.唇桿
患者,男,缺失,余留牙正常,口底距舌側(cè)齦緣的距離為4mm,如果設(shè)計(jì)鑄造支架可摘局部義齒,設(shè)計(jì)PRI卡環(huán)組。
取本例患者下頜模型時(shí)應(yīng)采用哪種印模方法()
A.解剖式印模
B.靜態(tài)印模
C.無壓力印模
D.功能性印模
E.一次印模
最新試題
拔牙后多長時(shí)間內(nèi)不宜漱口()
必須部分放入基牙倒凹內(nèi)的部分是()
牙體缺損修復(fù)時(shí),如粘固劑過稀,會(huì)引起()
上頜全口義齒的腭隆突、切牙乳突區(qū)屬于()
干槽癥的劇烈疼痛一般發(fā)生在拔牙后多久()
因創(chuàng)傷造成的隱裂無牙髓癥狀時(shí),應(yīng)首先采用()
拔牙后,縫合創(chuàng)口的縫線一般多長時(shí)間可以拆除()
下頜全口義齒的內(nèi)、外斜嵴及牙槽嵴上的一切骨突區(qū)屬于()
全口義齒覆蓋的上、下牙槽嵴頂區(qū)屬于()
屬于TMD致病因素里咬合因素的是()