A.上頜第一前磨牙
B.上頜第二前磨牙
C.下頜第一前磨牙
D.下頜第二前磨牙
E.上下頜尖牙
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A.40%氧化脲
B.40%過氧化氫
C.30%氧化脲
D.30%過氧化氫
E.30%過氧化氫+40%氧化脲
A.先鋒霉素和四環(huán)素
B.土霉素和地美環(huán)素
C.鏈霉素和氯霉素
D.林可霉素和慶大霉素
E.先鋒霉素和米諾環(huán)素
A.10%~30%檸檬酸
B.10%~15%磷酸
C.30%~50%磷酸
D.30%~50%醋酸
E.10%~15%醋酸
A.增大牙齒表面積
B.除去釉質表面玷污層
C.保護牙髓活力
D.暴露清潔新鮮的釉質
E.活化釉質表層
A.底平壁直,洞形必須達到一定的深度
B.點線角應圓滑,洞緣角應制備短斜面
C.應制備典型的箱狀洞,并設計良好的固位形
D.洞緣角應呈直角,不宜在洞緣角制備短斜面,需去凈無基釉
E.無須去凈無基釉,但要有良好的抗力形
最新試題
牙髓電活力測試時注意()
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