正中位是指()。
A.韌帶位
B.后退接觸位
C.牙尖交錯位
D.姿勢位
E.以上均是
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Kenndy Ⅳ類的活動義齒模型設(shè)計時,將模型向后傾斜的主要原因是()。
A.使義齒人工牙由前向后傾斜
B.制作方便
C.利用倒凹固位
D.牙槽嵴豐滿,唇側(cè)倒凹過大
E.減少義齒前份基托與余留牙間的間隙
A.哥特弓描記法
B.肌肉疲勞法
C.肌監(jiān)測儀法
D.卷舌法加上醫(yī)師經(jīng)驗
E.以上都是
A.患牙經(jīng)過完善的根管治療
B.尖周無炎癥或炎癥已完全控制
C.牙冠缺損至齦下
D.骨質(zhì)吸收不超過根長1/2
E.骨吸收穩(wěn)定者
確定垂直距離時所用的息止間隙平均值約為()。
A.0~1mm
B.1~2mm
C.2~3mm
D.4~5mm
E.5mm
A.回力卡環(huán)
B.倒鉤卡環(huán)
C.對半卡環(huán)
D.延伸卡環(huán)
E.U形卡環(huán)
最新試題
上頜結(jié)節(jié)頰側(cè)黏膜壓痛點的處理方法是().
為達到患者的主訴要求,最佳及最快速有效的治療方案為().
工作側(cè)出現(xiàn)早接觸,應(yīng)選磨().
頰黏膜出現(xiàn)血腫的可能原因是().
患者修復(fù)前不需考慮().
如果用RPA卡環(huán)組代替RPI卡環(huán)組,則圓環(huán)形卡環(huán)臂的堅硬部分應(yīng)位于基牙的().
若檢查同時發(fā)現(xiàn)全冠鄰接不良,則應(yīng)同時考慮().
大連接體可采用().
下頜牙槽嵴黏膜壓痛的最可能原因是().
取本例患者下頜模型時應(yīng)采用何種印模方法().