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填空題X熒光分析法基體的影響可分兩大類，一類是（）引起的，另一類是樣品粒度，表面結(jié)構(gòu)等造成的。

1.填空題X熒光儀冷卻系統(tǒng)由（）冷卻和（）冷卻兩部分組成。

2.填空題標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)貯存應(yīng)防止氧化、（）和（）。

3.填空題波長(zhǎng)色散型X射線熒光分析儀常用分光晶體有（）、（）、Ge、PX、InSb、TIAP、OVO等。

4.填空題特征X射線波長(zhǎng)與原子序數(shù)之間關(guān)系的定律是莫塞萊定律，公式為（）。

5.填空題通常根據(jù)被測(cè)組分百分量，可將被測(cè)組分分成常量組分（），微量組分（）和痕量組分（）。