單項選擇題

患者，男，缺失，余留牙正常，口底距舌側(cè)齦緣的距離為4mm，如果設計鑄造支架可摘局部義齒，設計PRI卡環(huán)組。

取本例患者下頜模型時應采用何種印模方法（）

A.解剖式印模
B.靜態(tài)印模
C.無壓力印模
D.功能性印模
E.一次印模


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2.單項選擇題

患者，女，50歲，缺失，余牙正常，口底至舌側(cè)牙齦距離為10mm，設計鑄造可摘局部義齒修復。設計RPI卡環(huán)組。

如果用RPA卡環(huán)組代替RPI卡環(huán)組，則圓環(huán)形卡環(huán)臂的堅硬部分應位于基牙的（）

A.頰側(cè)近中，觀測線上方的非倒凹區(qū)
B.頰側(cè)近中，觀測線下方的非倒凹區(qū)
C.頰側(cè)遠中，觀測線上方的非倒凹區(qū)
D.頰側(cè)遠中，觀測線上緣
E.頰側(cè)遠中，觀測線下方的倒凹區(qū)

3.單項選擇題

患者，女，50歲，缺失，余牙正常，口底至舌側(cè)牙齦距離為10mm，設計鑄造可摘局部義齒修復。設計RPI卡環(huán)組。

基牙預備時應制備出（）

A.近遠中支托窩
B.近中支托窩，舌側(cè)導平面
C.遠中支托窩，舌側(cè)導平面
D.近中支托窩，遠中導平面
E.遠中支托窩，遠中導平面