A.Sp(FSZ)=Scp/OUF=Scp/Sc
B.Sp(FSZ)=OUF/Scp=Sc/Scp
C.Sc=Scp/OUF=Scp/Sp
D.Sc=OUF/Scp=Sp/Scp
E.OUF=(Sc+Sp)/Scp
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A.照射野越大,影響越大
B.電子束射程越短,影響越大
C.低能時(shí),影響較大
D.當(dāng)照射野的直徑大于電子束射程的1/2時(shí),影響較小
E.當(dāng)照射野的直徑大于電子束射程的2/3時(shí),影響較大
A.原射線的離軸比
B.射野的邊界因子
C.射野的對稱性
D.射野的平坦度
E.射野的均質(zhì)性
A.一維物理楔形板
B.動(dòng)態(tài)楔形板
C.多葉準(zhǔn)直器動(dòng)態(tài)掃描
D.多葉準(zhǔn)直器靜態(tài)掃描
E.筆形束電磁掃描
A.體積較大
B.對側(cè)向散射反應(yīng)不靈敏
C.受“熱效應(yīng)”影響大
D.易受環(huán)境及溫度影響
E.受照射野大小影響
A.10
B.12
C.14
D.16
E.18
最新試題
隨能量增大,光電效應(yīng)發(fā)生的概率迅速減小。
對射野輸出劑量的檢測頻率,加速器高于鈷60機(jī)。
帶電粒子入射到物體時(shí),沒有確定的射程。
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn),而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。
實(shí)際患者治療時(shí),無環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
射線能量越高,百分深度劑量隨射野面積的改變越小。
人體曲面校正的組織空氣比法或組織最大劑量比方法的修正因子CF的表達(dá)式是()。
低LET射線的RBE值()1.0,高LET射線的RBE值()2.0。
低LET射線照射哺乳動(dòng)物細(xì)胞存活曲線在低劑量段有肩區(qū),提示()。