A.與核外電子發(fā)生彈性碰撞飛
B.與核外電子發(fā)生非彈性碰撞
C.與原子核發(fā)生彈性碰撞
D.與原子核發(fā)生非彈性碰撞
E.與原子核發(fā)生核反應(yīng)
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A.主量子數(shù)
B.宇稱
C.軌道角動(dòng)量量子數(shù)
D.軌道方向量子數(shù)
E.自旋量子數(shù)
A.經(jīng)驗(yàn)?zāi)P?br />
B.雙群模型
C.陣化擴(kuò)散方程模型
D.筆形束模型
E.“原射”和散射分量的分別計(jì)算
A.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
B.前者可考慮、計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度
C.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度
D.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
E.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
A.0.6%
B.0.9%
C.1%
D.1.2%
E.1.7%
A.受到光子和次級(jí)電子通量改變的影響
B.原射線在該組織內(nèi)的衰減發(fā)生變化(后方)
C.不同介質(zhì)中該點(diǎn)的吸收劑量之比等于衰減吸收系數(shù)之比
D.次級(jí)電子通量的改變
E.靠近不同組織的邊界處由于組織的衰減不同而劑量會(huì)明顯增加
最新試題
α/β不僅代表了細(xì)胞存活曲線的曲度,也代表了細(xì)胞對(duì)亞致死損傷的修復(fù)能力。
射線能量越高,百分深度劑量隨射野面積的改變?cè)叫 ?/p>
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱分別為QA、QC。
隨能量增大,光電效應(yīng)發(fā)生的概率迅速減小。
直線加速器使用的射野最大為()。
對(duì)重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
檢查燈光野與射野的一致性通常用膠片法。
百分深度劑量受照射野面積的影響。
利用圓形小野旋轉(zhuǎn)集束照射是X(γ)射線SRT(SRS)的基本特征。