A.10Gy
B.13Gy
C.15Gy
D.24Gy
E.35Gy
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A.0.8~1.0
B.1.0~1.2
C.1.2~1.5
D.1.1~1.8
E.1.5~2.2
A.平均線性衰減系數(shù)之比
B.平均質(zhì)量吸收系數(shù)之比
C.質(zhì)量阻止本領(lǐng)之比
D.電子密度之比
E.質(zhì)量衰減系數(shù)之比
A.穩(wěn)定照射范圍
B.提高輸出劑量率
C.減少靶區(qū)邊緣半影
D.改善靶區(qū)劑量的均勻性
E.保護(hù)靶區(qū)外的正常組織
A.擋鉛
B.電子窗
C.均整器
D.散射箔
E.限光筒
A.源皮距準(zhǔn)確,機(jī)架轉(zhuǎn)角準(zhǔn)確,體位準(zhǔn)確
B.源皮距準(zhǔn)確,機(jī)架轉(zhuǎn)角準(zhǔn)確,可以接受體位誤差
C.源皮距準(zhǔn)確,可以接受機(jī)架轉(zhuǎn)角的誤差和體位誤差
D.源皮距準(zhǔn)確,體位準(zhǔn)確,可以接受機(jī)架轉(zhuǎn)角的誤差
E.機(jī)架轉(zhuǎn)角準(zhǔn)確,體位準(zhǔn)確,可以接受源皮距誤差
最新試題
等效射野指的是通過(guò)計(jì)算換算后的方形野。
對(duì)鈷60機(jī)射野的對(duì)稱(chēng)性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí),應(yīng)采用雙平面插植。
射線能量越高,百分深度劑量隨射野面積的改變?cè)叫 ?/p>
目前靶區(qū)劑量的精確性規(guī)定應(yīng)達(dá)到()。
質(zhì)子束的優(yōu)勢(shì)在于布拉格峰形百分深度劑量分布。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應(yīng)因素。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
電離室型劑量?jī)x在每次測(cè)量前必需對(duì)氣溫和氣壓進(jìn)行修正。
對(duì)重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。