A.采用常規(guī)設(shè)計(jì)的布圖設(shè)計(jì)
B.布圖設(shè)計(jì)的設(shè)計(jì)思想
C.未經(jīng)登記的布圖設(shè)計(jì)
D.具有獨(dú)創(chuàng)性的布圖設(shè)計(jì)
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A.首先把其布圖設(shè)計(jì)在中國(guó)投入商業(yè)利用的外國(guó)人
B.其所屬國(guó)與中國(guó)簽有布圖設(shè)計(jì)保護(hù)協(xié)議的外國(guó)人
C.其所屬國(guó)與中國(guó)參加布圖設(shè)計(jì)保護(hù)國(guó)際條約的外國(guó)人
D.首先在中國(guó)辦理布圖設(shè)計(jì)登記手續(xù)的外國(guó)人標(biāo)
A.中國(guó)自然人
B.中國(guó)法人
C.中國(guó)其他組織
D.其設(shè)計(jì)未在中國(guó)首先投入商業(yè)使用的外國(guó)人
A.以半導(dǎo)體材料為基片
B.至少具有一個(gè)是有源元件的兩個(gè)以上元件
C.部分或全部互連線路集成在基片之中或者基片之上
D.以銅為基片
A.以半導(dǎo)體材料為基片
B.至少具有一個(gè)是有源元件的兩個(gè)以上元件
C.元件部分或全部互連線路成三維配置
D.具有15層以上
A.指明要求獲得的是“發(fā)明專利”
B.指明要求獲得的是“實(shí)用新型專利”
C.指明要求獲得的是“發(fā)明專利”和“實(shí)用新型專利”
D.指明要求獲得的是“外觀設(shè)計(jì)專利”
最新試題
以下哪個(gè)具體行政行為能申請(qǐng)復(fù)議?()
下列關(guān)于專利權(quán)效力的問題,哪種說法是不正確的?()
專利申請(qǐng)應(yīng)當(dāng)符合單一性的要求主要原因是下述哪項(xiàng)?()
不授予專利權(quán)的化學(xué)申請(qǐng)為下述哪個(gè)選項(xiàng)?()
關(guān)于分案申請(qǐng)的時(shí)間,下述哪個(gè)選項(xiàng)是正確的?()
審查發(fā)明或者實(shí)用新型專利申請(qǐng)的實(shí)用性時(shí),應(yīng)當(dāng)遵循的包括下述哪項(xiàng)?()
專利標(biāo)記指的是下列哪個(gè)選項(xiàng)?()
組合物權(quán)利要求有下述哪些形式?()
檢索用的專利文獻(xiàn)包括下述哪項(xiàng)?()
實(shí)質(zhì)審查程序的終止條件為下述哪項(xiàng)?()