多項(xiàng)選擇題以下哪幾項(xiàng)是集成電路制作工藝的()。

A.SOP
B.BCD
C.BMOS
D.CMOS
E.BiMOS
F.BCG


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1.多項(xiàng)選擇題集成電路進(jìn)入納米尺寸時(shí)代后,將面臨以下主要挑戰(zhàn):()。

A.漏電流增大導(dǎo)致總功耗增加
B.柵極氧化膜厚度接近物理極限
C.電路規(guī)模增大導(dǎo)致動(dòng)態(tài)功耗增加
D.配線延遲不能相應(yīng)降低從而影響性能