單項(xiàng)選擇題對(duì)三相并聯(lián)電抗器或由單相電抗器組成的三相組,每相電抗與三相電抗平均值間的偏差不超過()。

A.正負(fù)1%
B.正負(fù)2%
C.正負(fù)5%
D.正負(fù)10%


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2.單項(xiàng)選擇題并聯(lián)電抗器額定電抗允許偏差()。

A.正負(fù)1%
B.正負(fù)2%
C.正負(fù)5%
D.正負(fù)10%

3.單項(xiàng)選擇題對(duì)單相電抗器或可以不考慮互感(如水平布置的三相電抗器)的電抗器,電抗值為()的比值。

A.施加相電壓和實(shí)測(cè)相電流(方均根值)
B.施加線電壓和實(shí)測(cè)線電流(方均根值)
C.施加電壓和實(shí)測(cè)電流
D.施加相電壓和實(shí)測(cè)相電流的峰值

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高壓熔斷器外露金屬件表面銹蝕、變色、脫落面積不應(yīng)大于()mm2。

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中性點(diǎn)隔直裝置本體銹蝕面積不應(yīng)大于()mm2。

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構(gòu)支架基礎(chǔ)宜用(),確?;A(chǔ)無沉降、開裂。

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構(gòu)支架可研初設(shè)審查,其承載力、穩(wěn)定、變形、抗裂、抗震及耐久性等應(yīng)符合現(xiàn)行()產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)和設(shè)計(jì)要求。

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構(gòu)支架基礎(chǔ)回填土下陷時(shí),應(yīng)進(jìn)行回填或進(jìn)行地基()

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構(gòu)支架竣工(預(yù))驗(yàn)收,要求技改擴(kuò)建工程新構(gòu)支架應(yīng)與原構(gòu)支架()一致。

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鋼構(gòu)件采用()進(jìn)行防腐蝕處理。

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