A.努塞爾特準(zhǔn)數(shù)Nu
B.普蘭特準(zhǔn)數(shù)Pr
C.雷諾準(zhǔn)數(shù)Re
D.格拉斯霍夫準(zhǔn)數(shù)Gr
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.不變
B.增加
C.減小
D.不確定
A.活性炭
B.硅膠
C.活性氧化鋁
D.分子篩
A.O℃
B.25℃
C.環(huán)境溫度
D.可選取任何溫度,但在衡算系統(tǒng)內(nèi)應(yīng)統(tǒng)一
A.確定工藝方案,進(jìn)行工藝計(jì)算,提出主流程工藝流程圖(PFD)
B.提出必需的輔助系統(tǒng)和公用系統(tǒng)方案,并進(jìn)行初步的計(jì)算:提出初步的公用工程流程圖(UFD)
C.提出污染物排放及治理措施
D.負(fù)責(zé)裝置內(nèi)裝置正常安全運(yùn)行的安全系統(tǒng)設(shè)計(jì)
A.7
B.14
C.28
D.56
最新試題
對(duì)于高大的塔設(shè)備,其裝配圖可采用()以降低總體高度。
為方便安裝檢修,當(dāng)設(shè)備直徑大于800mm時(shí),應(yīng)設(shè)置()。
截平面截切圓柱,該圓柱軸線與水平面垂直,截平面與圓柱軸線傾斜且夾角為()時(shí),其截交線的投影為圓。
第三角畫法的三個(gè)視圖分別是()。
根據(jù)化工設(shè)備的結(jié)構(gòu)特點(diǎn),常會(huì)采用()等表達(dá)方法來補(bǔ)充基本視圖表達(dá)的不足。
設(shè)備設(shè)計(jì)條件單主要包括()。
點(diǎn)A、B為W面上的重影點(diǎn),且點(diǎn)A在點(diǎn)B之右,其在W面上可寫作()。
相貫線的投影為非圓曲線時(shí),其特殊點(diǎn)可以是()。
化工設(shè)備通常由主視圖和俯(左)視圖兩個(gè)基本視圖表達(dá),主視圖一般采用()。
正垂面投影特性是()。