單項(xiàng)選擇題化工化學(xué)水裝置低硅水來水壓力要求控制在（）MPa。
A.0.1～0.3
B.0.4～0.6
C.0.7～0.9
D.1.0～1.2
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1.單項(xiàng)選擇題化工化學(xué)水裝置低硅水來水CODMn控制指標(biāo)≤（）mg/L。
A.1
B.2
C.3
D.4
2.單項(xiàng)選擇題化工化學(xué)水裝置原水低硅水中含量較高的陰離子有四種，分別為（）。
A.HCO3-、CL-、SO42-、HSiO3-
B.HCO3-、CL-、SO42-、CO32-
C.HCO3-、CO32-、CL-、NO3-
D.HCO3-、CO32-、SO42-、HSiO3-
3.單項(xiàng)選擇題化工化學(xué)水裝置原水低硅水中含量較高的陽離子有四種，分別為（）。
A.Na+、Fe2+、Ca2+、Mg2+
B.Na+、K+、Ca2+、Mg2+
C.Na+、K+、Fe2+、Ca2+
D.Na+、K+、Ca2+、Cu2+
4.單項(xiàng)選擇題當(dāng)水的PH值小于（）時(shí)，水中碳酸幾乎完全以二氧化碳的形式存在。
A.4.3
B.6.2
C.7.8
D.9.0
5.單項(xiàng)選擇題當(dāng)天然水中PH值大于8.3時(shí)，水中不存在（）。
A.CO2
B.HCO3-
C.CO32-
D.OH-
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