多項(xiàng)選擇題在平衡氧氯化法VCM裝置中,VCM塔底的循環(huán)EDC氯化主要是指()的氯化。
A.EDC
B.氯丁二烯
C.苯
D.三氯乙烯
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1.多項(xiàng)選擇題EDC裂解汽化器進(jìn)料EDC經(jīng)過()預(yù)熱后進(jìn)入汽化器。
A.裂解爐輻射段
B.EDC預(yù)熱器
C.裂解爐對流段
D.EDC過熱器
2.多項(xiàng)選擇題在VCM裝置中,下列屬于低沸物的有()
A.二氯乙烷
B.三氯乙烷
C.氯丁二烯
D.苯
3.多項(xiàng)選擇題氧氯化反應(yīng)器能產(chǎn)生的蒸汽有()
A.低壓蒸汽
B.中壓蒸汽
C.高壓蒸汽
D.超高壓蒸氣
4.多項(xiàng)選擇題高溫直接氯化反應(yīng)器通過()移走反應(yīng)熱。
A.冷卻器器
B.閃蒸罐閃蒸EDC
C.尾氣壓縮機(jī)
D.EDC循環(huán)量
5.多項(xiàng)選擇題為了回收EDC裂解爐出口高溫?zé)崃?,一般采用(?/a>
A.裂解爐對流段進(jìn)料與裂解爐輻射段直接換熱
B.用裂解爐輻射段熱量產(chǎn)生蒸汽
C.用裂解爐輻射段出口高溫裂解氣使EDC汽化
D.直接進(jìn)HCl塔
最新試題
氧氯化單元產(chǎn)品EDC純度下降,應(yīng)檢查()
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