多項(xiàng)選擇題建/構(gòu)筑工程詳細(xì)勘察點(diǎn)布置采用樁基礎(chǔ)時(shí)，關(guān)于樁勘探點(diǎn)間距布置正確的是（）

A.端承樁勘探點(diǎn)間距10m，摩擦樁25m，抗拔樁25m
B.端承樁勘探點(diǎn)間距15m，摩擦樁25m，抗拔樁30m
C.端承樁勘探點(diǎn)間距20m，摩擦樁28m，抗拔樁32m
D.端承樁勘探點(diǎn)間距23m，摩擦樁35m，抗拔樁35m


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1.多項(xiàng)選擇題建/構(gòu)筑工程詳細(xì)勘察勘探點(diǎn)布置應(yīng)符合下列（）規(guī)定。

A.單棟高層建筑勘探點(diǎn)的布置應(yīng)滿足對(duì)地基均勻性的評(píng)價(jià)要求，且不應(yīng)少于4個(gè)，對(duì)勘察等級(jí)為甲級(jí)的高層建筑，當(dāng)基礎(chǔ)寬度大于30m 時(shí)，應(yīng)在中心點(diǎn)或電梯井、核心筒體部分布設(shè)勘探點(diǎn)
B.在花崗巖孤石發(fā)育區(qū)和巖溶發(fā)育地區(qū)，勘探點(diǎn)間距宜小于10m或每柱不少于一個(gè)勘探點(diǎn)
C.同一建筑物范圍內(nèi)主要持力層或其下臥層地層界面坡度大于10%，且可能影響到基礎(chǔ)設(shè)計(jì)或施工方案選擇時(shí)，應(yīng)加密勘探點(diǎn)間距查明地層界面起伏情況
D.控制性勘探點(diǎn)應(yīng)根據(jù)建筑物平面分布均勻布置，其數(shù)量不小于勘探點(diǎn)總數(shù)的1/3，高層建筑控制點(diǎn)數(shù)量不應(yīng)少于勘探點(diǎn)總數(shù)的1/2

3.多項(xiàng)選擇題建/構(gòu)筑工程初步勘察勘探工作應(yīng)符合下列（）規(guī)定。

A.勘探線應(yīng)垂直地貌單元、地質(zhì)構(gòu)造和地層界線布置
B.勘探深度可根據(jù)擬建物的工程特性、擬建場(chǎng)地的巖土工程條件、可能采用的基礎(chǔ)形式和潛在的基礎(chǔ)持力層等綜合確定
C.控制性勘探點(diǎn)宜占勘探點(diǎn)總數(shù)的1/5～1/3
D.取樣或原位測(cè)試勘探點(diǎn)的數(shù)量宜占勘探點(diǎn)總數(shù)的1/4~1/2

4.多項(xiàng)選擇題巖體基本質(zhì)量等級(jí)為Ⅳ級(jí)和Ⅴ級(jí)時(shí)，尚應(yīng)符合下列（）要求。

A.軟巖和極軟巖，應(yīng)判定是否具有可軟化性、膨脹性、崩解性等特殊性質(zhì)
B.極破碎巖體應(yīng)分析破碎的原因
C.應(yīng)判定開(kāi)挖后是否會(huì)進(jìn)一步風(fēng)化、膨脹、遇水崩解等工程特性
D.地下洞室和邊坡工程應(yīng)劃分巖體結(jié)構(gòu)面的結(jié)構(gòu)類(lèi)型

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巖體結(jié)構(gòu)面測(cè)量應(yīng)采用（）測(cè)定其走向、傾角和傾向。當(dāng)傾角較緩或確定有困難時(shí)，可采用（）或“V”字型法確定。

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