A.液體密度
B.液體粘度
C.液體表面張力
D.液體品質(zhì)
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A.探傷部位的厚度
B.磁極位置，間距
C.外磁場干擾
D.磁化規(guī)范
A.（4～8）D
B.（8～16）D
C.（15～20）D
D.（20～30）D
A.（4～8）D
B.（8～16）D
C.（15～20）D
D.（20～30）D
A.外表面小，內(nèi)表面大
B.外表面大，內(nèi)表面小
C.內(nèi)外表面大，中向小
D.外內(nèi)表面小，中向大
A.相等的
B.縱波大于橫波
C.縱波小于橫波
D.與材料無關(guān)
最新試題
衍射時差法對缺陷檢出率高，超聲波束覆蓋區(qū)域大，缺陷高度測量精確，實時成像，快速分析。
水浸式探頭主要特點是探頭與工件直接接觸，且探頭部分或全部門浸入耦合液中。
超聲波在圓柱內(nèi)反射，如果縱波在圓柱面上發(fā)生波形轉(zhuǎn)換，且一次反射橫波再經(jīng)另一側(cè)圓柱面波形轉(zhuǎn)換成二反射縱波，返回探頭接收，會形成等邊的三角形遲到回波。
為了減少側(cè)壁的影響，必要時可采用試塊比較法進(jìn)行定量，以便提高定量精度。
當(dāng)工件內(nèi)應(yīng)力與波的傳播方向一致時，若應(yīng)力為壓縮應(yīng)力，則應(yīng)力作用會使工件彈性增加，導(dǎo)致聲速減慢。
在檢測晶粒粗大和大型工件時，應(yīng)測定材料的衰減系數(shù)，計算時應(yīng)考慮介質(zhì)衰減的影響。
根據(jù)球形反射體返回晶片聲壓的計算公式與圓柱形平面反射體的表達(dá)式進(jìn)行比較可知，在反射體直徑相同的情況下，圓形反射體的反射聲壓比球形反射體的反射壓小。
水浸聚焦探頭是由外殼、阻尼塊、晶片、聲透鏡等組成。
缺陷垂直時，擴(kuò)散波束入射至缺陷時回波較高，而定位時就會誤認(rèn)為缺陷在軸線上，從而導(dǎo)致定位不準(zhǔn)。
缺陷相對反射率即缺陷反射聲壓與基準(zhǔn)反射體聲壓之比。