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填空題根據(jù)向襯底輸送原子的方式可以把外延分為：（）、（）、（）。

1.填空題CVD過程中化學(xué)反應(yīng)所需的激活能來源有（）、（）、（）等。

2.填空題常用的濺射鍍膜氣體是（），射頻濺射鍍膜的射頻頻率是（）。

3.填空題濺射鍍膜方法有（）、（）、（）、（）等。

4.填空題離子對(duì)物體表面轟擊時(shí)可能發(fā)生的物理過程有（）、（）、（）、（）。

5.填空題自持放電的形式有（）、（）、（）、（）。