A.高斯;
B.亨利;
C.法拉;
D.安培
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A.電流:符號-I,單位-安培;
B.磁導(dǎo)率:符號-μ,單位-亨利/米;
C.磁通密度:符號-B,單位-高斯,國際單位制單位-特斯拉;
D.磁場強(qiáng)度:符號-H,單位-奧斯特,國際單位制單位-安/米;
E.以上都對
A.電場強(qiáng)度;
B.磁感應(yīng)強(qiáng)度;
C.磁場強(qiáng)度;
D.磁通量
A.電場強(qiáng)度;
B.磁感應(yīng)強(qiáng)度;
C.磁場強(qiáng)度;
D.磁通量
A、鐵磁性材料有磁滯現(xiàn)象
B、隨著含碳量增高,矯頑力增大
C、鐵磁性材料的磁導(dǎo)率μ遠(yuǎn)大于1,它是與外磁場變化無關(guān)的常數(shù)
D、鐵磁性材料比順磁性材料較難達(dá)到飽和狀態(tài)
E、A和B都對
A.磁導(dǎo)率略小于1的材料;
B.磁導(dǎo)率遠(yuǎn)大于1的材料;
C.磁導(dǎo)率接近于1的材料;
D.磁導(dǎo)率等于1的材料
最新試題
用連續(xù)法檢測時(shí),檢測靈敏度不僅與被檢工件表面磁場強(qiáng)度有關(guān),還受被檢工件材質(zhì)的影響。
相關(guān)顯示是由漏磁場吸附磁粉形成的磁痕顯示。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:直流退磁法是將需退磁工件放入直流磁場中,逐漸減小電流至零。
熒光磁粉檢測時(shí),磁痕的評定應(yīng)在暗室或暗處進(jìn)行,暗室或暗處可見光照度應(yīng)不小于20Lx。
C型靈敏度試片與A型靈敏度試片使用方法相同,只是C型靈敏度試片能用于狹小部位。
采用濕法時(shí),應(yīng)確認(rèn)整個(gè)檢測面被磁懸液濕潤后,再施加磁懸液。
濕法用磁粉粒度一般比干法小。
根據(jù)JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,磁粉檢測前的工件表面準(zhǔn)備包括打磨表面、安裝接觸墊、封堵盲孔和涂敷反差增強(qiáng)劑。
磁粉檢測,所有的磁痕尺寸、數(shù)量和產(chǎn)生部位均應(yīng)記錄并圖示。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:檢測后加熱至600℃以上進(jìn)行熱處理的工件,一般可不進(jìn)行退磁。