單項選擇題腐蝕二氧化硅的水溶液一般是用()
A、鹽酸
B、硫酸
C、硝酸
D、氫氟酸
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1.單項選擇題說明構成每個單元所需的基本門和基本單元的集成電路設計過程叫():
A、邏輯設計
B、物理設計
C、電路設計
D、系統(tǒng)設計
2.單項選擇題屬于絕緣體的正確答案是()。
A.金屬、石墨、人體、大地
B.橡膠、塑料、玻璃、云母、陶瓷
C.硅、鍺、砷化鎵、磷化銦
D.各種酸、堿、鹽的水溶液
3.多項選擇題下列材料屬于N型半導體是()。
A.硅中摻有元素雜質磷(P)、砷(As)
B.硅中摻有元素雜質硼B(yǎng).、鋁(Al)
C.砷化鎵摻有元素雜質硅(Si)、碲(TE)
D.砷化鎵中摻元素雜質鋅、鎘、鎂
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