判斷題印制電路板中的圖形蝕刻是指用化學(xué)溶液去掉銅箔而得到所需的電路圖形的過(guò)程。
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2.多項(xiàng)選擇題在酸性氯化銅蝕刻液體系的再生方法中,由于氯氣是強(qiáng)氧化劑,直接通氯氣是再生的最好方法。是因?yàn)椋ǎ?/a>
A.成本低
B.再生速率快
C.無(wú)污染
D.設(shè)備簡(jiǎn)單
3.多項(xiàng)選擇題在酸性氯化銅蝕刻過(guò)程出現(xiàn)抗蝕劑破壞的原因可能有()。
A.溶液溫度過(guò)高
B.溶液被污染
C.顯影有余膠
D.傳遞速度過(guò)快
4.多項(xiàng)選擇題影響等離子體蝕刻特性好壞的因素包括以下幾個(gè)方面()。
A.等離子體蝕刻系統(tǒng)的形態(tài)
B.等離子體蝕刻的參數(shù)
C.光刻膠
D.待蝕刻薄膜的淀積參數(shù)條件
5.多項(xiàng)選擇題濕法蝕刻具有以下哪些缺點(diǎn)()。
A.化學(xué)藥品處理時(shí)人員會(huì)遭遇的安全問(wèn)題
B.反應(yīng)溶液及去離子水需花費(fèi)較高成本
C.光刻膠會(huì)產(chǎn)生附著性問(wèn)題
D.蝕刻不均勻
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題型:?jiǎn)柎痤}
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題型:?jiǎn)柎痤}
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