問答題與以P阱CMOS工藝為基礎(chǔ)的BiCMOS工藝相比，以N阱CMOS工藝為基礎(chǔ)的BiCMOS工藝有什么特點？
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
最新試題
試用電導(dǎo)率為102/（Ω·cm），厚1μm的材料設(shè)計1kΩ的電阻，設(shè)電阻寬1μm，求其長。
題型：問答題
MOS場效應(yīng)管（MOSFET）在20世紀70年代得到了廣泛的接受，從那時起到現(xiàn)在一直是集成電路的主流晶體管。MOSFET有兩類（）和（）。每種類型可由各自器件的多數(shù)載流子來區(qū)別。
題型：多項選擇題
比較砷化鎵和磷化銦等襯底與硅襯底上的電感等效電路，試分析兩者存在差異的原因。
題型：問答題
在圖中，若所有的晶體管都工作在飽和區(qū)，求M4的漏電流。
題型：問答題
20世紀上半葉對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)量展做出貢獻的4種不同產(chǎn)業(yè)主要是（）。
題型：多項選擇題
MOS器件按比例縮小后對器件特性有什么影響？
題型：問答題
說明MOS器件噪聲的來源、成因及減小方法。
題型：問答題
目前集成電路版圖設(shè)計的主流工具有哪些？
題型：問答題
規(guī)定版圖幾何設(shè)計規(guī)則的意義是什么？
題型：問答題
從天然硅中獲得達到生產(chǎn)半導(dǎo)體器件所需純度的SGS要經(jīng)過（）等步驟。
題型：多項選擇題