A.2.5MHz
B.4MHz
C.1MHz
D.以上都是
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A.直探頭,接管內(nèi)壁,垂直法
B.斜探頭,接管內(nèi)蓖,直射法
C.斜探頭容器外表面,一次或二次波法
D.以上一種或兩種組合方式
A.159-220mm
B.180-300mm
C.180-220mm
D.只適用于200mm
A.R=440mm
B.R=360mm
C.R=380mm
D.以上均可
A.φ1×6-4dB
B.φ1×6+2dB
C.φ1×6-15dB
D.φ1×6-8dB
A.最小10mm
B.最大20mm
C.40mm
D.30mm
最新試題
JB4730-94標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定不允許存在的缺陷有哪些?
散射線忽略不計(jì),當(dāng)平板透照厚度的減薄量相當(dāng)于半價(jià)層的1/×?xí)r,則膠片接受的射線照射量將增大百分之幾?
什么叫做試驗(yàn)線圈的視在阻抗?它在渦流檢測(cè)中有何作用?
JB4730-94標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定非熒光磁粉,每100毫升磁懸液沉淀體積為()。
新置的Ir192γ射線源,其活度為40Ci,現(xiàn)今時(shí)隔300天,已知,Ir192γ射線源的半衰期為75天。求該源現(xiàn)在的活度?該源新置時(shí),對(duì)某工件進(jìn)行射線照相的曝光時(shí)間為4min,若所有條件不變,現(xiàn)今應(yīng)曝光多少分鐘?
下圖所示的標(biāo)準(zhǔn)試件可用來(lái)測(cè)定()。
對(duì)某非磁性材料進(jìn)行渦流檢測(cè)時(shí),已知μr=1,f=2kHz,ρ=2O×1O-6Ω·m,試計(jì)算滲透深度值為多少?
渦流的響應(yīng)()。
用××2005型×光機(jī)180KV管電壓透照Φ51*3.5的管子環(huán)焊縫,已知焊縫寬度b=10mm,焦點(diǎn)尺寸3*3,試求①滿足Ug=3Ui,橢圓開(kāi)口間距g=5mm時(shí)的透照距離L1和透照偏移距離S(設(shè)Ui=0.0013V0.8,膠片離管子底面距離3mm)②若透照距離L1=800mm,則此時(shí)Ug為Ui的幾倍?
造成相同的x射線機(jī)曝光曲線不完全相同的原因是什么?