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A.線(xiàn)圈處于磁飽和狀態(tài)
B.磁導(dǎo)率使線(xiàn)圈的感抗增大
C.磁性試件的電導(dǎo)率使線(xiàn)圈感抗增大
D.此現(xiàn)象可由公式B/H=μ說(shuō)明
圖中電壓V和電流I相位關(guān)系是()。
A.同相
B.相位相差45°
C.相位相差90°
D.相位相差180°
下圖中電壓V和電流I相位關(guān)系是()。
A.同相
B.相位相差45°
C.相位相差90°
D.相位相差180°
A.不同的
B.相同的
C.類(lèi)似的
D.無(wú)關(guān)的
最新試題
分析底片上出現(xiàn)白色(黑度低于周?chē)缚p或母材的黑度)缺陷影像的原因?
圖所示的標(biāo)準(zhǔn)試件可用來(lái)測(cè)定()。
什么叫做試驗(yàn)線(xiàn)圈的視在阻抗?它在渦流檢測(cè)中有何作用?
JB4730-94標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定磁軛的磁極間距應(yīng)控制在()。
阻抗圖中,實(shí)線(xiàn)曲線(xiàn)是什么值不同的曲線(xiàn)()。
造成相同的x射線(xiàn)機(jī)曝光曲線(xiàn)不完全相同的原因是什么?
對(duì)觀片燈有哪些基本要求?
寫(xiě)出VC-S滲透探傷的工藝流程。
新置的Ir192γ射線(xiàn)源,其活度為40Ci,現(xiàn)今時(shí)隔300天,已知,Ir192γ射線(xiàn)源的半衰期為75天。求該源現(xiàn)在的活度?該源新置時(shí),對(duì)某工件進(jìn)行射線(xiàn)照相的曝光時(shí)間為4min,若所有條件不變,現(xiàn)今應(yīng)曝光多少分鐘?
用××2005型×光機(jī)180KV管電壓透照Φ51*3.5的管子環(huán)焊縫,已知焊縫寬度b=10mm,焦點(diǎn)尺寸3*3,試求①滿(mǎn)足Ug=3Ui,橢圓開(kāi)口間距g=5mm時(shí)的透照距離L1和透照偏移距離S(設(shè)Ui=0.0013V0.8,膠片離管子底面距離3mm)②若透照距離L1=800mm,則此時(shí)Ug為Ui的幾倍?