問答題Si3N4材料在半導體工藝中能否用作層間介質，為什么？請舉兩例說明Si3N4在集成電路工藝中的應用。
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版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么？
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20世紀上半葉對半導體產(chǎn)業(yè)量展做出貢獻的4種不同產(chǎn)業(yè)主要是（）。
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集成電路電阻可以通過（）產(chǎn)生。
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編寫DRC版圖驗證文件的主要依據(jù)是什么？
題型：問答題
從天然硅中獲得達到生產(chǎn)半導體器件所需純度的SGS要經(jīng)過（）等步驟。
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根據(jù)圖，給出M2管的漏極電流表達式。
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