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A、吸收塔采用空塔結(jié)構(gòu)
B、吸收塔采用塔內(nèi)結(jié)晶
C、吸收塔采用填料塔
D、吸收塔不設(shè)置前置預(yù)洗滌塔

A、煙氣擋板應(yīng)能夠在最大的壓差下操作，并且關(guān)閉嚴(yán)密
B、煙氣擋板不會(huì)有變形或卡澀現(xiàn)象，而且擋板在全開(kāi)和全閉位置與鎖緊裝置要能匹配
C、煙道擋板的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和布置要使擋板內(nèi)的積灰減至最小
D、全部擋板采用可拆卸保溫結(jié)構(gòu)，并且避免產(chǎn)生熱不均勻現(xiàn)象

A、膨脹節(jié)設(shè)計(jì)要求：膨脹節(jié)由多層復(fù)合材料組成，若采用非金屬膨脹節(jié)，則采用聚四氟布材料，不允許用石棉材料
B、對(duì)于纖維波紋管或金屬波紋管的膨脹節(jié)，提供保護(hù)板以防止灰塵沉積在膨脹節(jié)波節(jié)處。在同等條件下，選擇可靠性已證實(shí)的材料
C、位于合金或合金內(nèi)襯煙道處的膨脹節(jié)全部是合金材料。至少是耐酸耐熱鎳基合金鋼
D、材料選擇提交給業(yè)主確認(rèn)

A、煙道的膨脹節(jié)在所有運(yùn)行和事故條件下都能吸收全部連接設(shè)備和煙道的軸向和徑向位移
B、膨脹節(jié)應(yīng)能承受煙氣高溫和耐腐蝕而不造成損害和泄漏。
C、低溫段的膨脹節(jié)設(shè)有可靠的排水措施，保證冷凝液能通暢排出。
D、所有的煙道膨脹節(jié)均為金屬材質(zhì)

A、脫硫系統(tǒng)不設(shè)GGH
B、脫硫系統(tǒng)不設(shè)煙氣旁路
C、脫硫系統(tǒng)不設(shè)增壓風(fēng)機(jī)
D、脫硫系統(tǒng)單元制運(yùn)行

A、工藝系統(tǒng)主要包括：煙氣系統(tǒng)、脫硫劑供給系統(tǒng)、SO₂吸收系統(tǒng)、事故排空系統(tǒng)、硫銨后處理系統(tǒng)以及相應(yīng)的工藝水、氣系統(tǒng)等
B、熱控系統(tǒng)（儀表和控制系統(tǒng)、脫硫裝置原/凈煙氣污染物分析系統(tǒng)等）
C、電氣系統(tǒng)（包括照明、通訊、檢修電源、MCC系統(tǒng)、配電裝置、電纜、電纜橋架和接地、避雷等）
D、附屬系統(tǒng)：鋼結(jié)構(gòu)、樓梯和平臺(tái)、檢修起吊設(shè)施、防腐、保溫和油漆，給排
水，暖通，照明，弱電等

A、采用1爐1塔布置，不設(shè)GGH，不設(shè)增壓風(fēng)機(jī)，不設(shè)煙氣旁路
B、本項(xiàng)目脫硫不設(shè)置前置預(yù)洗滌塔，即采用鋼制、單塔方式，空塔結(jié)構(gòu)，塔內(nèi)飽和結(jié)晶，不采用填料塔
C、硫銨制備系統(tǒng)4臺(tái)爐合用，硫銨包裝系統(tǒng)采用國(guó)內(nèi)知名廠家，硫酸銨的產(chǎn)物含游離酸量小于0.2%，水分含量不高于1%（重量比），硫酸銨品質(zhì)符合GB535-1995硫酸銨化肥標(biāo)準(zhǔn)中合格品要求
D、采用液氨和廢氨水作為脫硫劑，4臺(tái)爐合用

A、整套系統(tǒng)及其裝置應(yīng)能夠滿足整個(gè)系統(tǒng)在各種工況下自動(dòng)運(yùn)行的要求，系統(tǒng)的啟動(dòng)、正常運(yùn)行監(jiān)控和事故處理應(yīng)實(shí)現(xiàn)完全自動(dòng)化
B、動(dòng)力中心未設(shè)置事故保安電源，賣方須確保電源故障不會(huì)對(duì)脫硫裝置造成不可挽回的損失。技術(shù)協(xié)議中要有專題措施說(shuō)明
C、對(duì)于容易損耗、磨損或出現(xiàn)故障并因此影響裝置運(yùn)行性能的所有設(shè)備，即使設(shè)有備用件，也將設(shè)計(jì)成易于更換、檢修和維護(hù)
D、煙道和箱罐等設(shè)備應(yīng)配備足夠數(shù)量的人孔門(mén)，所有的人孔門(mén)使用鉸接方式，且能容易開(kāi)/關(guān)。所有的人孔門(mén)附近設(shè)有維護(hù)平臺(tái)

A、脫硫裝置檢修時(shí)間間隔應(yīng)與機(jī)組的要求一致，不應(yīng)增加機(jī)組的維護(hù)和檢修時(shí)間。機(jī)組檢修時(shí)間為：小修每年1次，大修每4年一次
B、脫硫裝置正常運(yùn)行工況下要達(dá)到水的0排放
C、脫硫島內(nèi)所有需要防腐的容器均采用內(nèi)襯玻璃鱗片防腐
D、脫硫裝置能通過(guò)環(huán)保局的環(huán)保驗(yàn)收

A、吸收段
B、氧化段
C、濃縮段
D、除霧段