A.保護(hù)期自登記申請(qǐng)日或世界任何地方首次投入商業(yè)利用之日起(以較前日為準(zhǔn))計(jì)算時(shí),布圖設(shè)計(jì)專利權(quán)保護(hù)期為10年
B.布圖設(shè)計(jì)自創(chuàng)作完成之日起算時(shí),保護(hù)期為15年
C.布圖設(shè)計(jì)自登記證書頒發(fā)日起算,保護(hù)期為10年
D.布圖設(shè)計(jì)自產(chǎn)品投入商業(yè)利用日起,保護(hù)期為15年
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A.采用常規(guī)設(shè)計(jì)的布圖設(shè)計(jì)
B.布圖設(shè)計(jì)的設(shè)計(jì)思想
C.未經(jīng)登記的布圖設(shè)計(jì)
D.具有獨(dú)創(chuàng)性的布圖設(shè)計(jì)
A.首先把其布圖設(shè)計(jì)在中國投入商業(yè)利用的外國人
B.其所屬國與中國簽有布圖設(shè)計(jì)保護(hù)協(xié)議的外國人
C.其所屬國與中國參加布圖設(shè)計(jì)保護(hù)國際條約的外國人
D.首先在中國辦理布圖設(shè)計(jì)登記手續(xù)的外國人標(biāo)
A.中國自然人
B.中國法人
C.中國其他組織
D.其設(shè)計(jì)未在中國首先投入商業(yè)使用的外國人
A.以半導(dǎo)體材料為基片
B.至少具有一個(gè)是有源元件的兩個(gè)以上元件
C.部分或全部互連線路集成在基片之中或者基片之上
D.以銅為基片
A.以半導(dǎo)體材料為基片
B.至少具有一個(gè)是有源元件的兩個(gè)以上元件
C.元件部分或全部互連線路成三維配置
D.具有15層以上
最新試題
專利局因未收到在先專利申請(qǐng)文件副本而對(duì)某申請(qǐng)作出視為未要求外國優(yōu)先權(quán)決定,申請(qǐng)人可以采用哪種程序和辦法,使該優(yōu)先權(quán)繼續(xù)有效?()
在專利法規(guī)中,下述各項(xiàng)哪些是專門針對(duì)實(shí)用新型保護(hù)對(duì)象制定的?()
關(guān)于發(fā)明與實(shí)用新型兩者之間相同之處,哪一選項(xiàng)是正確的?()
專利申請(qǐng)應(yīng)當(dāng)符合單一性的要求主要原因是下述哪項(xiàng)?()
下列關(guān)于專利權(quán)效力的問題,哪種說法是不正確的?()
不授予專利權(quán)的化學(xué)申請(qǐng)為下述哪個(gè)選項(xiàng)?()
下列有關(guān)專利權(quán)人聲明放棄專利權(quán)的敘述,錯(cuò)誤的是()。
專利標(biāo)記指的是下列哪個(gè)選項(xiàng)?()
關(guān)于分案申請(qǐng)的時(shí)間,下述哪個(gè)選項(xiàng)是正確的?()
對(duì)于分案申請(qǐng)的說明書和權(quán)利要求書的要求,下列哪個(gè)選項(xiàng)是正確的?()