A.接觸法垂直入射
B.水浸法垂直入射
C.接觸法斜入射
D.水浸法斜入射
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A.平底孔
B.V型或矩形槽
C.橫孔
D.A和B
A.端面垂直入射檢驗(yàn)
B.端面斜入射檢驗(yàn)
C.圓周面垂直入射檢驗(yàn)和圓周面斜入射檢驗(yàn)
D.以上都是
A.端面區(qū)域聲衰減比中心區(qū)域大
B.端面區(qū)域聲衰減比中心區(qū)域小
C.圓周區(qū)域聲衰減比中心區(qū)域小
D.不能確定
A.平底孔
B.橫通孔
C.矩形槽
D.V型槽
A.接觸法縱波+橫波，端面掃查
B.水浸法縱波+橫波，端面掃查
C.水浸或接觸法縱波+橫波，周面掃查
D.縱波檢查內(nèi)部缺陷，表面波檢查表面缺陷
最新試題
當(dāng)調(diào)節(jié)檢測(cè)靈敏度用的試塊與工件（）、曲率半徑不同或材質(zhì)衰減不同時(shí)，需要進(jìn)行傳輸修正。
板波檢測(cè)可以發(fā)現(xiàn)（），其檢出靈敏度與儀器設(shè)備及波的形式有關(guān)。
移動(dòng)探頭找到缺陷最大回波，沿缺陷方向左右移動(dòng)探頭，缺陷回波高度降低一半時(shí)，探頭中心軸線所對(duì)應(yīng)的位置即為指示長(zhǎng)度的端點(diǎn)，兩端點(diǎn)之間的直線長(zhǎng)度即為缺陷指示長(zhǎng)度。這種測(cè)長(zhǎng)方法稱為（）。
單探頭法容易檢出（）。
（）可以檢測(cè)出與探測(cè)面相垂直的面狀缺陷。
（）是影響缺陷定量的因素。
超聲波儀時(shí)基線的水平刻度與實(shí)際聲程成正比的程度，即（）。
利用底波計(jì)算法校準(zhǔn)靈敏度時(shí)，下面敘述中（）是錯(cuò)誤的。
儀器水平線性影響（）。
（）可以檢測(cè)出與探測(cè)面垂直的橫向缺陷。