填空題拋光片的質(zhì)量檢測項(xiàng)目包括:幾何參數(shù),直徑、()、主參考面、副參考面、平整度、彎曲度等;(),電阻率,載流子濃度,遷移率等;晶體質(zhì)量,晶向,位錯(cuò)密度。
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厚膜漿料存在觸變性,流體受到外力作用時(shí)黏度迅速下降,外力消失后,黏度迅速恢復(fù)原狀。()
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片狀源擴(kuò)散具有設(shè)備簡單,操作方便,晶片缺陷少,均勻性、重復(fù)性和表面質(zhì)量都較好,適于批量生產(chǎn),應(yīng)用越來越普遍。()
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設(shè)備、試劑、氣瓶等所有物品不需經(jīng)嚴(yán)格清潔處理,可直接進(jìn)入凈化區(qū)。()
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敘述H2還原SiCl4外延的原理,寫出化學(xué)方程式。
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目前在半自動(dòng)化和自動(dòng)化的鍵合機(jī)上用的金絲或硅鋁絲都是經(jīng)生產(chǎn)廠家嚴(yán)格處理包裝后銷售,一般不能再退火,一經(jīng)退火反而壞了性能。()
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鈀.銀電阻的燒結(jié)分預(yù)燒結(jié)、燒結(jié)、降溫冷卻三個(gè)階段。()
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干法腐蝕清潔、干凈、無脫膠現(xiàn)象、圖形精度和分辨率高。()
題型:判斷題