A、優(yōu)等品
B、一等品
C、二等品
D、合格品
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A、MU3.5
B、MU5.0
C、MU20
D、MU25
A、NHB.MU7.5AGB8239
B、NHB.MU3.5BGB8239
C、NHB.MU2.5CGB8239
D、NHB.MU7.5DGB8239
A、技術(shù)要求
B、試驗方法
C、檢驗規(guī)則
D、放射性核素限量
A、700
B、600
C、1300
D、1400
A、MU1.5
B、MU2.5
C、MU10.0
D、MU15.0
最新試題
下列哪一個遷移率的測量方法適合于低阻材料少子遷移率測量()
可用作硅片的研磨材料是()
對于同時存在一種施主雜質(zhì)和一種受主雜質(zhì)的均勻摻雜的非簡并半導體,在溫度足夠高、ni>>/ND-NA/時,半導體具有()半導體的導電特性。
在光線作用下,能使物體產(chǎn)生一定方向的電動勢的現(xiàn)象稱()
懸浮區(qū)熔的優(yōu)點不包括()
光子傳感器是利用某些半導體材料在入射光的照下,產(chǎn)生().使材料的電學性質(zhì)發(fā)生變化。通過測量電學性質(zhì)的變化,可以知道紅外輻射的強弱。光子效應(yīng)所制成的紅外探測器。
對于大注入下的直接復合,非平衡載流子的壽命不再是個常數(shù),它與()。
PN結(jié)的基本特性是()
屬于晶體缺陷中面缺陷的是()
影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是()①原材料中雜質(zhì)的種類和含量;②雜質(zhì)的分凝效應(yīng);③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應(yīng);④生長過程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污;⑤加入雜質(zhì)量;