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最新試題
CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。
摻雜后，退火的目的是（）。
互連工藝中AL的制備可選用（）。
鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。
碳納米管場效應(yīng)晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。
硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。
三光檢查主要是檢查芯片粘貼和引線焊接之后有無各種廢品。
常壓的硅外延方法有（）。
摻雜后退火時間一般在（）。
硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項？（）
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