判斷題硅中的雜質(zhì)只有一部分被真正激活,并提供用于導(dǎo)電的電子或空穴(大約3%~5%),大多數(shù)雜質(zhì)仍然處在間隙位置,沒有被電學(xué)激活。
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圖a中M1和M2為某CMOS工藝中的兩個NMOS管,M1的W/L=12μm/6μm,M2的W/L=4μm/2μm,其它物理參數(shù)及偏置均相同。圖b中給出了M1的漏極電流Id1隨Vgs的變化曲線,請畫出Id2的大致變化,并說明Id1和Id2有什么不同,并解釋不同的主要原因。
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從設(shè)計的觀點出發(fā),版圖設(shè)計規(guī)則應(yīng)包括哪些部分?
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