填空題渦電流檢測法利用的是（）原理.

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1.單項(xiàng)選擇題矢量點(diǎn)、橢圓和線性時(shí)基法都屬于（）.

A.阻抗試驗(yàn)法；
B.調(diào)制分析試驗(yàn)法；
C.相位分析試驗(yàn)法；
D.以上都不是

2.單項(xiàng)選擇題用自動(dòng)化操縱系統(tǒng)對(duì)材料進(jìn)行渦流檢驗(yàn)時(shí)，靈敏度按照什么進(jìn)行校準(zhǔn)和調(diào)整最好？（）

A.一些電子源；
B.另一種無損試驗(yàn)方法；
C.一個(gè)NBS標(biāo)準(zhǔn)；
D.一個(gè)被檢驗(yàn)的實(shí)際零件

3.單項(xiàng)選擇題對(duì)試件內(nèi)磁場的磁通密度具有最大影響的管狀產(chǎn)品的參數(shù)是（假定磁化力H不變）（）.

A.產(chǎn)品的表面粗糙度；
B.產(chǎn)品的直徑；
C.產(chǎn)品的壁厚；
D.產(chǎn)品的長度

4.單項(xiàng)選擇題為了保證可靠地檢出缺陷，管材通過圍繞線圈的最大速度必須加以限制。速度的極限取決于（）.

A.線圈長度；
B.要求達(dá)到的缺陷尺寸分辯力；
C.試驗(yàn)頻率；
D.以上都是.

5.單項(xiàng)選擇題在穿過式圍繞線圈渦流系統(tǒng)中，轉(zhuǎn)動(dòng)試樣，使試樣上的缺陷處在不同位置（如上、下、左、右）的目的是什么？（）

A.為了檢查相位選擇性；
B.為了保證材料位于試驗(yàn)線圈中心；
C.為了選擇調(diào)制分析的調(diào)節(jié)值；
D.為了選擇正確的試驗(yàn)速度

最新試題

在射線照相檢驗(yàn)中，隨著射線能量的提高，得到的圖像不清晰度也將增大。

題型：判斷題

底片或電子圖片、X射線照相檢驗(yàn)記錄、射線檢測報(bào)告副本、檢測報(bào)告等及臺(tái)帳由X光透視人員負(fù)責(zé)管理。

題型：判斷題

X光檢驗(yàn)組按復(fù)查清單組織復(fù)查，并出具X光底片復(fù)查報(bào)告，復(fù)查無遺留問題方可進(jìn)行試壓。

題型：判斷題

X射線檢驗(yàn)人員負(fù)責(zé)對(duì)需排除的超標(biāo)缺陷實(shí)施定位、做好相應(yīng)標(biāo)注，確保定位準(zhǔn)確。

題型：判斷題

一次完整的兩面多層補(bǔ)焊，當(dāng)正面打底層質(zhì)量進(jìn)行過一次X射線檢測，若反面還需打底，則無需X射線檢測。

題型：判斷題

增加工藝性透視有利于保證焊接質(zhì)量，因此盡可能增加工藝性透視次數(shù)。

題型：判斷題

缺陷分類應(yīng)符合驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)的要求，標(biāo)準(zhǔn)未作規(guī)定的缺陷或不屬于X射線照相檢驗(yàn)范疇的缺陷，必要時(shí)可予以注明供有關(guān)人員參考，但不作為合格與否判定的依據(jù)。

題型：判斷題

按輻射安全管理規(guī)定，輻射作業(yè)場所每周應(yīng)進(jìn)行一次輻射劑量檢測。

題型：判斷題

對(duì)于直徑Φ50mm導(dǎo)管環(huán)焊縫，采用的透照方式為（）。

題型：單項(xiàng)選擇題

底片圖像質(zhì)量參數(shù)中的顆粒度與膠片的粒度是同一概念。

題型：判斷題